“《指南》的制定是对全国知识产权系统多年审查与执法实践经验的提炼与总结，也是落实机构改革赋予国家知识产权局新职能的具体成果，有利于凸显集成电路布图设计作为知识产权类型的重要地位。”保护司有关负责人表示。

为贯彻落实党中央、国务院关于严格知识产权保护的决策部署，全面加强集成电路布图设计专有权保护，提高集成电路布图设计审查、执法工作的效率与水平，近日，国家知识产权局印发《集成电路布图设计审查与执法指南(试行)》(以下简称《指南》)。

发明专利申请文件是在申请日当日向国家知识产权局提交的专利申请文件。该文件是专利审查和保护的基础性文件，主要包括说明书、权利要求书等几个部分。但是，申请人在最初提出申请时，可能会因为种种原因，没有概括出最合适的权利要求，那么如何在申请过程中将其进行变更呢?一起来看看本文作者对主动变更技术方案的时机和技巧的分析。

国家知识产权局于2017年6月审议通过《专利优先审查管理办法》(下称《办法》)。《办法》中规定：自同意优先审查之日起，发明专利申请在四十五日内发出第一次审查意见通知书，并在一年内结案。相比于仅能加速第一次审查意见发出的其他加速机制(如PPH)，专利申请的优先审查能够大大缩短专利申请的整体审查周期，加速了专利申请的结案进程。

　在申请文件撰写以及审查意见的答辩等环节中，背景技术所公开的内容发挥着至关重要的作用，但目前，很多专利代理师(或申请人)并不重视背景技术的撰写以及查阅，这在申请文件撰写和审查意见答辩过程中都可能导致一系列的问题。